2001年12月11日，沪上微电科长春实验室将进行一次曝光系统实验。
之前一再提到过，光刻机最核心的两个东西是镜头和光源，而今天这场实验的目的，倒不是说直接就搞定了镜头光源，这是不可能的，地表最强组合成立才半年，国家项目下来后的大佬加盟更是不过两个月的时间。
即便2001年的光刻机技术攻坚要比2019年容易很多，但也不至于这么快。今天这个实验的目的，是为了进一步证明浸没式光刻机的发展方向是正确的。
之前纪凯论证了浸没式光刻机的可行性，但更多是属于理论上的结论。
这就好比林本坚带着理论找到尼康的时候人家并不搭理他，理论终究是理论，还是需要上升到实际运用的。
所以这次实验的目的一是进一步证明了方向正确后，可以给大家更大的信心，浸没式光刻机可以突破现在整个光刻机行业的瓶颈，搞定米国人和霓虹人搞不定的事情，如果这个东西真的可行，对华夏这个领域的科研人员来说意义极其重大。
而在这个基础上，就可以更放心的投入更大的财力和精力了，特别是想要让国家投入更多的话。
上午9点，长春实验室内，有一台看着明显要比光刻机粗糙很多的东西。进一步的验证研究方向的正确性和实际生产出一台光刻机的最大区别就在于，不需要真的完成芯片的光刻行为，只需要能顺利采集一些数据即可。
而这种区别就会带来设备上的巨大区别，比如精密机械方面，实验不需要达到纳米级的自动化机械水平，你甚至拿手操控都行。
但有些东西还是会有要求的，比如光源质量。
9点整，实验准备开始，孟谦则继续翻看徐国华的笔记本。
徐国华的笔记本上记录的不仅仅只是他的经历，他之所以跟孟谦说看看自己的笔记本能不能帮到自己，是因为上面还记录着他这么多年的技术积累。
就比如他参与到公司光刻机项目之后之后
“2001年9月19日
提升光刻机分辨率的方法有三个，缩短波长，增加数值孔径，减小K1因子。前段时间，江大带来的浸没式光刻机概念，可以大大提升折射率，从而增加数值孔径。
为了更好的配合全新的浸没式光刻机概念，我们与长光所合作，在激光器上实现了巨大突破。
我们研发了一种高功率193nm准分子激光器，使用氟气、氩气以及氦气混合气体作为工作介质，可输出ArF最大脉冲激光能量424毫焦耳，总功率基本稳定在1%。激光器由内径8.4m的玻璃钢圆筒做成，总长94m。
电极采用张氏均匀场型面电极，电极有效平取宽5mm，电极长80m，两电极之间距离2.1m。”
此时的长春实验室。
“王院士，供电系统已经准备完毕。”
“开始实验。”
“2001年11月17日，晴。
王院士的加入让团队信心大增，30多名科研人员连续攻坚一个月，终于在光束稳定技术上取得了成果。
此次的光束稳定系统包括光束测量和光束转向两大核心功能模块，在推导了两个模块之间的光束传递矩阵后，王院长非常大胆的决定搭建光电闭环控制系统，通过引入已知光束偏移量后，数据显示，系统的指向稳态误差低于±3rad，位置稳态误差低于±0.04mm，系统调整时间小于80ms。
实验结果令人振奋。”
“2001年11月28日，晴。
由长光所和江大共同组建的扩束系统小组带来了好消息，全新设计的系统可以满足光束在5-20m传输光路范围内不需要进行透镜间隔调节，实现光斑大小和发散角满足设计要求，保证目标光束口径在(28.5±0.5)mm范围内，X方向发散角为1.2mrad，Y方向发散角为1.84mrad。
该项研究将对光刻机研发产生巨大影响。”
此时的长春实验室。