许秋和范文堂交流了一会儿，解答了对方提出的几个问题，然后走到韩嘉莹那边，查看学妹写文章的进度。
韩嘉莹正在撰写PTQ系列材料光电性能的描述部分，看到许秋走了过来，有些开心，主动聊了起来。
然后，许秋就发现学妹的工作效率直线下降，一边聊天一边打字，好几个单词都拼写错了。
于是，许秋和学妹打了声招呼，果断开溜，还是不打扰她了。
许秋再次前往里间实验室，查看莫文琳的实验进展。
莫文琳现在还在基于许秋组会上的思路进行摸索，到现在一共制备了两批器件。
虽然她制备的器件最高效率达到了已经超过了学妹之前创下的效率记录，但是距离许秋摸索出来的还是有一个百分点的差距。
毕竟是现实嘛。
现实和模拟实验室相比，除了摸索用时比较长这个最大的不同之外，在具体的实验次序上也有差异。
比如膜厚与转速的对应关系，在现实中做实验，不会上来就先做这个。
而是会先通过调控溶液浓度、转速，把最佳的条件摸索出来。
再去补充扫描电子显微镜、光吸收光谱表征，换算得到膜厚与转速、浓度的对应关系。
进而得到最优条件下的有效层的膜厚，绘制出器件效率随底电池、顶电池膜厚变化的二维图谱。
也就是说，现实中做叠层器件，不是按照顶电池、底电池膜厚来规划的，而是按照溶液浓度、转速来规划的。
在做器件的时候并不知道具体的膜厚，只有一个大概的估计，比较吃经验。
主要也是现实中做实验，需要从节省时间的角度来考虑，而在模拟实验室中就不需要这般考虑，怎么方便怎么来。
当然，这也不是什么非常关键的问题，虽然表述方法不同，但背后的逻辑是一致的。
许秋检查了一下莫文琳的实验规划，发现她在膜厚的优化区间中存在一些问题。
她过多的参考了原先三元底电池，二元顶电池叠层器件的经验。
而实际上，现在发展成为二元底电池，三元顶电池叠层器件后，情况有了很大的不同。
比如，原先三元底电池，二元顶电池的最优条件，是顶电池厚度110纳米，底电池厚度220纳米。
现在的二元底电池，三元顶电池的最优条件是，顶电池厚度130纳米，底电池厚度190纳米。
偏差了20-30纳米的膜厚，反应在器件效率上，可能就会相差1%-2%。
另外，现实中用到的是以浓度、转速作为实验条件的，当体系发生变化后，比如二元体系变更为三元体系，同样浓度、转速下得到的膜厚也会与之前有所不同。
换言之，看似只是把PCBM的位置挪动了一下，实际上前后两个体系的差异已经非常大了，因此需要重新摸索条件。
现在的莫文琳，就相当于在16%等效率线的边缘不断摸索，自然取得难以突破。
许秋要做的事情，就是把她引导到16%等效率线中心的位置，去找到那个可以突破17%的机会。