周五一大早。
许秋进入模拟实验室II，查阅结果。
学妹的B4T-8系列3D-PDI受体和PCE10给体搭配下的有机光伏体系的效率最高。
最高值9.17%!
“最高效率还真被爆了啊，还没捂热乎呢。”许秋嘀咕了一句，“不过，至少曾经拥有过。”
许秋心态倒是很轻松，就算学妹做的更高，她发的文章自己也是二作，四舍五入一下，大概就相当于是自己破了自己的记录嘛。
而且对于这个结果他也不是很意外，毕竟学妹的二代6系列效率最高值都已经7.5%了，而现在是三代8系列，后者采用了在许秋体系中颇有成效的两步分子结构优化手段——氮原子位侧链修饰、引入硒原子，效率飙升也很正常。
而且，这次的模拟实验，许秋整合了前期3D-PDI体系的所有器件加工策略，花了整整十二个小时，测试了数百种条件，为的就是一步到位，直接把效率做上去。
换言之，想进一步优化器件加工条件，使得效率向上提升，空间并不大，基本上已经达到了材料的性能上限。
想要进一步提升，除非拓宽给体库或者颠覆现有的涂膜方式。
前者很好理解，但是需要时间积累。
后者的话，指的是研究者们开发出来的特殊涂膜方式，包括许秋之前开发的热旋涂法；还有一些文献中报道的，比如“一层又一层”旋涂法，就是把给体、受体分开旋涂两次；“倒着涂”旋涂法，在旋涂成膜的最后过程中，让基片正面朝下旋转等等……
关于特殊涂膜方式的文章，只有零零星星的三两篇，被报道后几乎没什么模仿者，而且效果看起来也一般。
就比如ACSAMI的一篇文章，用的就是“倒着涂”旋涂法，他们采用的标准体系，正常旋涂得到的器件效率为8.0%，而“倒着涂”之后，效率提升至8.8%，然而这个体系，许秋随随便便做出来的标样效率都在10%以上，所以他总觉得他们在玩杂技，也就没有模仿他们的兴趣。
反复看了几遍9.17%这个数据，许秋开始盘算：
“今天周五一整天都要准备光源样品，周六要光源测试，周日休息一天，现实中的实验结果要等周一才能拿到了。”
“虽然要拖几天，不过好事多磨嘛，这点寂寞我还是耐得住的。”
“不过，这个工作的定位似乎有点尴尬啊……”
一方面，在许秋的体系打算冲击NC的前提下，她这个体系效率虽然更高，但也没机会上NC了，除非她能在许秋之前抢先投稿，不然文章的上限最高就是AM、JACS、EES这类的材料、化学顶刊。
另一方面，她手里第二代6系列的工作已经进行了大半，表征基本齐了，文章都快写出来了，不可能直接放弃第二代分子，直接去写第三代的文章，而一旦她第二代分子的文章发表了，第三代的分子新意就会打很多折扣。
科研同行也不是傻子，一眼就能看出来这两种分子的相似性，尤其还是同一个课题组的文章。
也就是说，学妹的两个工作很难同时发表两篇顶刊，不过一篇AM级别的肯定是有了，另外一篇差不多能发一篇CM、JMCA之类的弱一区。
当然，如果魏老师是院士，这一切都不成问题，两篇AM都是小意思。
毕竟，学术圈子也是人的圈子，也有所谓“学阀”、“山头”的存在。