许秋也不急，他先去超声波清洗仪把清洗液换为丙酮，然后用微信联系了邱贺明要了组激活码，从自己电脑上把TRPL软件的安装包拷贝下来，重返218，给新电脑安装上软件，成功激活，测试了一番，没有问题，最后又从魏老师那边得到“明天下午两点和唐云坤讨论”的消息。
回到216，因为学姐和学妹都不在，许秋坐在了田晴旁边，和她客套了几句，聊了聊文章封面的事情，得知魏老师还额外给了她200块的工本费。
说起来，田晴自从上周一撞破他和韩嘉莹之后，就再也没有去张疆做过钙钛矿量子点的合成了。
结合组会时她的表现，许秋倒是大致猜出了原因，她不太想接触化学实验。
魏老师似乎也没有管的样子，不知道他们两人是不是有交涉过。
不过许秋没多想，这些都和他没太多关系。
……
下午，许秋制备了一批器件，基于三种3D-DPI分子的，分别是他的三代5系列，韩嘉莹的一代B3T和B4T系列。
这次他没有像之前一样故意压效率，而是直接以模拟实验室II的最优结果为起始点——给体材料均为P3TEA，溶剂为氯仿，使用DIO溶剂添加剂等等……
再基于这个条件进行进一步的优化，比如调控转速、DIO的添加比例等等。
一方面是因为学姐和学妹都不在邯丹，没人实时关注他的实验结果，完全可以测出高的值后，先报个低一点的值出来。
另一方面，他还有三代6/8系列在路上，学妹的体系也可以开发第二代、第三代，器件效率都有大幅提升的空间，不是最终代的产品，也没有必要藏着掖着。
最终的结果，这批器件的光电性能，除了一代B4T系列外，其他两个系列均相较于模拟实验室II中的结果有所提升。
其中，三代5系列、一代B3T和B4T系列的效率分别为6和4.38%，前值分别为5和4.87%。
一代B4T系列的器件性能降低许秋倒是不意外，因为DIO是旋涂前才额外加的，当时一不小心多加了一些，时间上来不及重新配制一瓶溶液，只能硬着头皮往下做。
虽然性能降低了，但至少得到了一个实验结论，“3D-PDI这个体系器件的性能，受溶剂添加剂的影响非常大”，也算是有所收获。
此外，在实验的过程中，许秋盯着自己旋涂的有效层薄膜，隐隐约约感觉抓到了什么，“溶剂……溶剂添加剂……结晶性……共混形貌……”
“我明白了……个棒槌。”实验灵感似乎要喷薄而出，但却又戛然而止。
不上不下的，弄得他很是难受。
转念一想，其实也很正常，很多实验灵感都要在反复实验中才能体悟。
最近他太过依赖模拟实验室了，有机合成以外的实操频率大幅下降。
这并不是一件好事，因为模拟实验人员的局限性，只能基于许秋的能力进行模拟。
如果他的能力一直不提高，模拟实验人员的上限就是永远固定的。